RAYLASE 两轴激光扫描振镜包含 RL‑III、MINISCAN‑III、SUPERSCAN IIE / IV / V 五大产品系列,覆盖经济型、紧凑型数字、高稳定热管理、高动态高速、全数字反馈高精度不同等级;支持 XY2‑100、XY2‑100‑E、SL2‑100 多种控制协议,提供多孔径、多反射镜基材、多种调校模式以及水冷 / 反射镜吹扫热管理方案,可满足激光打标、切割焊接、清洗、SLM 增材制造、MOTF 飞行加工、光伏划线、半导体及医疗器械精密微加工等各类工业激光应用。
我们一站式供应各种类型的RAYLASE 振镜,两轴激光扫描振镜,激光打标振镜,水冷振镜,高稳定性振镜,可提供选型、技术指导、安装培训、个性定制等全生命周期、全流程服务,欢迎联系我们的产品经理!
RAYLASE 两轴激光扫描振镜用于控制激光束在二维工作平面内快速偏转,适用于激光打标、微加工、焊接、钻孔、清洗、材料去除、金属增材制造及飞行加工等场景。选型应综合考虑输入孔径、反射镜基材与镀膜、动态性能、长期漂移、控制接口、冷却方式、工作幅面及激光功率。
| 型号 | RL III | MINISCAN III | SUPERSCAN IIE | SUPERSCAN IV | SUPERSCAN V |
| 核心定位 | 性价比款 | 紧凑型数字控制 | 长期稳定性 / 热管理 | 高动态、高速加工 | 全数字反馈、高精度 |
| 输入孔径 | 10 / 14 mm | 10 / 14 / 20 mm | 7 / 10 / 12 / 15 / 20 / 30 mm | 10 / 15 / 20 / 30 mm | 15 / 30 mm |
| 控制特点 | XY2-100 | XY2-100、SL2-100 | XY2-100 | XY2-100 增强协议、SL2-100 | XY2-100、SL2-100 |
| 数字反馈监测 | - | 数字控制 | 重点在稳定性和热管理 | 模型化数字调节 | 全数字反馈及状态监测 |
| 热管理关注点 | 按型号确认 | 按型号确认 | 水冷、反射镜空气冷却等选项 | 水冷主结构、可选空气吹扫 | 按型号确认 |
| 优先评估的应用 | 常规打标、打孔、切割、焊接 | 打标、SLM/SLS 填充、清洗 | 高稳定性、高功率及精细加工 | MOTF、薄膜及纸材高速加工 | 高精度打标、焊接、钻孔及精细结构化 |
快速选型流程
RL‑III 是面向工业激光加工的经济型两轴扫描振镜,兼顾加工效率、运行可靠性与设备成本,适合工业量产环境。具备较高打标与定位速度,低噪声、低漂移,结构坚固轻量化。仅支持 XY2‑100 标准协议。其中RL‑III‑10:输入孔径 10 mm,体积更小、动态响应更快;RL‑III‑14:输入孔径 14 mm,适配更大光束,整机重量更大。

产品特点
主要技术参数
| 型号 | RL-III-10 | RL-III-14 |
| 简介 | 两轴激光扫描振镜,节约成本的工业设计 | 两轴激光扫描振镜,节约成本的工业设计 |
| 供电电压 | ±15 V ~ ±18 V(建议 ±16.5 V) | ±15 V ~ ±18 V(建议 ±16.5 V) |
| 电流 | 2 A RMS,峰值最大 10 A | 2 A RMS,峰值最大 10 A |
| 纹波 / 噪声 | ≤ 200 mVpp @ 20 MHz 带宽 | ≤ 200 mVpp @ 20 MHz 带宽 |
| 接口信号 | 数字,XY2-100 协议 | 数字,XY2-100 协议 |
| 工作温度 | +15 ℃ ~ +35 ℃ | +15 ℃ ~ +35 ℃ |
| 储存温度 | −10 ℃ ~ +60 ℃ | −10 ℃ ~ +60 ℃ |
| 湿度 | ≤ 80 %,无结露 | ≤ 80 %,无结露 |
| 防护等级 | IP54 | IP54 |
| 典型光学偏转角 | ±0.393 rad | ±0.393 rad |
| 分辨率(XY2-100, 16 bit) | 12 μrad | 12 μrad |
| 重复定位精度(RMS) | < 2.0 μrad | < 2.0 μrad |
| 温度漂移 — 增益 | 15 ppm/K | 15 ppm/K |
| 温度漂移 — 位置 | 10 μrad/K | 10 μrad/K |
| 长期漂移(8 h) | < 150 μrad | < 150 μrad |
| 输入孔径 | 10 mm | 14 mm |
| 光束位移 | 12.4 mm | 17.0 mm |
| 重量(无透镜) | ≈ 0.9 kg | ≈ 2.0 kg |
| 外形尺寸 (L×W×H) | 100.0 × 77.0 × 83 mm | 134.0 × 98.0 × 100.3 mm |
| 1064 nm 反射镜材质 | Si | Si |
| 10600 nm 反射镜材质 | Si | Si |
| 调校类型 | 打标调校 (MA),针对打标应用优化 | 打标调校 (MA),针对打标应用优化 |
| 打标速度(高 / 良好质量) | 650 / 850 cps | 500 / 650 cps |
| 打标 / 加工速度 | 30 rad/s | 30 rad/s |
| 定位速度 | 85 rad/s | 60 rad/s |
| 追迹误差 | 0.14 ms | 0.18 ms |
| 1% 全行程阶跃响应时间 | 0.40 ms | 0.45 ms |
| 幅面线速度示例(f=163 mm F-Theta) | 13.8 m/s | 9.7 m/s |
典型应用
详情资料:RL III 系列两轴扫描振镜 RL-III-10,RL-III-14
MINISCAN‑III 为紧凑型数字控制振镜,采用数字伺服控制,进一步优化噪声与漂移指标。同时兼容 XY2‑100(16bit)与 SL2‑100(20bit)双数字协议。支持多种调校模式,除常规打标外,特别适配金属增材制造填充、激光清洗等高动态场景,防护等级 IP64,适合严苛工业环境。

产品特点
主要技术参数
| 型号 | MINISCAN III-10 | MINISCAN III-14 | MINISCAN III-20 |
| 产品定位 | 小型工业加工设计 | 小型工业加工设计 | 紧凑型工业设计 |
| 供电电压 | +30 V 或 +48 V | +30 V 或 +48 V | +30 V 或 +48 V |
| 电流 | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A |
| 纹波 / 噪声 | ≤300 mVpp @20 MHz | ≤300 mVpp @20 MHz | ≤300 mVpp @20 MHz |
| 接口信号 | 数字:XY2-100 增强协议 + SL2-100 | 数字:XY2-100 增强协议 + SL2-100 | 数字:XY2-100 增强协议 + SL2-100 |
| 工作 / 储存温度 | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ |
| 湿度 / 防护 | ≤80% 无结露 / IP64 | ≤80% 无结露 / IP64 | ≤80% 无结露 / IP64 |
| 典型偏转角 | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad |
| 分辨率 XY2-100 (16 bit) | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad |
| 分辨率 SL2-100 (20 bit) | 0.76 μrad | 0.76 μrad | 0.76 μrad |
| 重复定位精度 (RMS) | <2.0 μrad | <2.0 μrad | <2.0 μrad |
| 定位噪声 (RMS) | <4.5 μrad | <4.5 μrad | <3.2 μrad |
| 温度漂移 — 增益 | 15 ppm/K | 15 ppm/K | 15 ppm/K |
| 温度漂移 — 位置 | 10 μrad/K | 10 μrad/K | 10 μrad/K |
| 8 h 长期漂移 | <80 μrad | <80 μrad | <80 μrad |
| 输入孔径 [mm] | 10 | 14 | 20 |
| 光束位移 [mm] | 12.4 | 17.0 | 26.0 |
| 重量(无透镜)[kg] | ≈0.9 | ≈2.0 | ≈2.5 |
| 外形 L×W×H [mm] | 100.0×77.0×83 | 134.0×98.0×100.3 | 145.0×116.0×103.5 |
| Si / QU 反射镜机械尺寸 | 相同 | 相同 | 相同 |
| 反射镜镀膜 | 反射镜镀膜 | 反射镜镀膜 | 反射镜镀膜 |
| 355 nm(紫外) | Si | Si | — |
| 532 nm(绿光) | Si | Si | — |
| 515–540 nm(绿光) | — | — | QU |
| 980 + 1940 nm | — | QU | QU |
| 1064 nm(光纤) | Si | Si | Si |
| 1070 nm | QU | QU | — |
| 900–1100 nm + AL | — | — | Si |
| 1060–1090 nm + AL | — | — | QU |
| 10.6 μm(CO₂) | Si | Si | Si |
| 可选调校 | MA(打标) | VC(快速向量) MA(打标) C(清洗 / 长矢量高速) | M(微加工,锐拐角) MA(打标) |
| 写入速度 [cps] (高 / 良好质量) | Si/QU:800 / 1000 | Si-MA:650 / 800 QU-MA:600 / 750 Si-VC、QU-C:—(向量应用) | Si-MA:—(MA 未列 cps) M 调校未列 cps |
| 加工速度 [rad/s] | 30(@30 V 与 @48 V 相同) | Si-VC:30@30 V / 50@48 V Si-MA:30@30 V / 30@48 V QU-C:70@30 V / 100@48 V QU-MA:30@30 V / 30@48 V | Si-M:30 Si-MA:30 QU-M:30 |
| 定位速度 [rad/s] | Si/QU:60@30 V / 100@48 V | Si-VC:30@30 V / 50@48 V Si-MA:60@30 V / 90@48 V QU-C:70@30 V / 100@48 V QU-MA:60@30 V / 90@48 V | Si-M:30 Si-MA:55 QU-M:30 |
| 追迹误差 [ms] | 0.13 | Si-VC:0.20 Si-MA:0.16 QU-C:0.30 QU-MA:0.17 | Si-M:0.30 Si-MA:0.34 QU-M:0.34 |
| 1% 全行程阶跃响应 [ms] | 0.30 | Si-VC:0.68 Si-MA:0.36 QU-C:0.69 QU-MA:0.39 | Si-M:0.90 Si-MA:0.80 QU-M:1.01 |
| 幅面线速度示例 (F-Theta f=163 mm) | 16 m/s(@48 V,100 rad/s) | Si-MA @48 V:≈14.7 m/s QU-C @48 V:≈16.3 m/s | Si-MA:≈8.9 m/s |
典型应用
详情资料:MINISCAN III 系列紧凑型数字扫描振镜 MINISCAN III-10,MINISCAN III-14,MINISCAN III-20
SUPERSCAN IIE 面向高要求的连续工业激光加工,采用双层壳体热抑制设计,重点降低长时间工作漂移。提供水冷、反射镜空气吹扫等热管理选项;可选 Enhanced 增强版本,可将长期漂移性能提升约 50%。仅支持 XY2‑100 协议,适合高功率长时间稳定加工。

产品特点
主要技术参数
| 型号 | SS-IIE-7 | SS-IIE-10 | SS-IIE-15 | SS-IIE-20 | SS-IIE-20 L | SS-IIE-30 |
| 供电电压 | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V) | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V) | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V) | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V) | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V)) | ±15~±18 V (建议 ±16.5 V) |
| 电流 | 3 A RMS,峰值 10 A | 3 A RMS,峰值 10 A | 3 A RMS,峰值 10 A | 3 A RMS,峰值 10 A | 3 A RMS,峰值 10 A | 同3 A RMS,峰值 10 A |
| 纹波 / 噪声 | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz |
| 接口信号 | 数字 XY2-100 | 数字 XY2-100 | 数字 XY2-100 | 数字 XY2-100 | 数字 XY2-100 | 数字 XY2-100 |
| 工作 / 储存温度 | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ |
| 湿度 / 防护 | ≤80% 无结露 | ≤80% 无结露 | ≤80% 无结露 | ≤80% 无结露 | ≤80% 无结露 | ≤80% 无结露 |
| 典型光学偏转角 | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad |
| 光学分辨率 | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad |
| 重复定位精度 (RMS) | 2 μrad | 2 μrad | 2 μrad | 2 μrad | 2 μrad | 2 μrad |
| 定位噪声 (RMS) | <10 μrad | <10 μrad | <10 μrad | <10 μrad | <10 μrad | <10 μrad |
| 温度漂移 — 增益 | <15 ppm/K | <15 ppm/K | <15 ppm/K | <15 ppm/K | <15 ppm/K | <15 ppm/K |
| 温度漂移 — 位置 | <10 μrad/K | <10 μrad/K | <10 μrad/K | <10 μrad/K | <10 μrad/K | <10 μrad/K |
| 8 h 长期漂移(无水冷) | <150 μrad | <150 μrad | <150 μrad | <150 μrad | <150 μrad | <150 μrad |
| 8 h 长期漂移(有水冷) | <100 μrad | <100 μrad | <100 μrad | <100 μrad | <100 μrad | <100 μrad |
| 输入孔径 [mm] | 7 | 10 | 15 | 20 | 20 | 30 |
| 光束位移 [mm] | 9.0 | 12.4 | 18.55 / 18.05 | 26.28 / 25.63 | 26.28 / 25.63 | 35.98 / 35.38 |
| 重量(无透镜)[kg] | ≈1.6 | ≈3.3 | ≈3.3 | ≈3.3 | ≈5.9 | ≈5.9 |
| 外形 L×W×H [mm] | 135×97×102 | 170×125×117.5 | 170×125×117.5 | 170×125×117.5 | 203×159×150/160.5 | 203×159×150/160.5 |
| 水冷选项 | — | ✓ | ✓ | ✓ | ✓ | ✓ |
| 空气冷却选项 | — | — | — | — | ✓ | ✓ |
| 加速时间 [ms] | 0.19 | 0.22 | 0.30 | 0.61 | 0.61 | 0.84 |
| 写入速度 [cps] | 900 | 800 | 500 | 350 | 350 | — |
| 加工速度 [rad/s] | 90 | 60 | 40 | 35 | 35 | 30 |
| 定位速度 [rad/s] | 90 | 60 | 40 | 35 | 35 | 30 |
| 加速时间 [ms] | — | — | 0.36 | 0.70 | 0.70 | 0.90 |
| 写入速度 [cps] | — | — | 450 | 350 | 350 | — |
| 加工速度 [rad/s] | — | — | 35 | 35 | 35 | 25 |
| 定位速度 [rad/s] | — | — | 35 | 35 | 35 | 25 |
| AG(铝基型) | Si | — | — | — | — | — |
| 343 nm | — | — | QU | — | — | — |
| 405 nm | — | — | QU | — | — | — |
| 355 nm(紫外) | Si | Si | QU, Si | QU | QU | — |
| 532 nm(绿光) | Si | Si | QU, Si | Si | Si | — |
| 180–780 nm + AL | — | — | QU | — | — | — |
| 780–980 nm | — | — | QU | QU | QU | — |
| 780–980 nm + AL | — | — | — | — | — | QU |
| 1064 nm(光纤) | Si | Si | QU, Si | Si | Si | QU, Si |
| 1064+850–870 nm (YIL) | — | — | — | QU | QU | — |
| 900–1100 nm + AL | — | — | — | — | — | QU |
| 1020–1040 nm | — | — | — | — | — | QU |
| 1060–1080 nm | — | — | — | QU | QU | QU |
| 10.6 μm(CO₂) | Si | Si | Si | Si | Si | Si |
| 水冷介质 | — | 加添加剂洁净自来水,22~28 ℃, 最大水压 < 3 bar | 加添加剂洁净自来水,22~28 ℃, 最大水压 < 3 bar | 加添加剂洁净自来水,22~28 ℃, 最大水压 < 3 bar | 加添加剂洁净自来水,22~28 ℃, 最大水压 < 3 bar | 加添加剂洁净自来水,22~28 ℃, 最大水压 < 3 bar |
| 水冷流量 / 压降 | — | 2 L/min→0.4 bar; 4→0.8;6→1.2 | 2 L/min→0.4 bar; 4→0.8;6→1.2 | 2 L/min→0.4 bar; 4→0.8;6→1.2 | 2 L/min→0.4 bar; 4→0.8;6→1.2 | 2 L/min→0.4 bar; 4→0.8;6→1.2 |
| 水冷接头 | — | 直通 [W] 或 90°[W2] | 直通 [W] 或 90°[W2] | 直通 [W] 或 90°[W2] | 直通 [W] 或 90°[W2] | 直通 [W] 或 90°[W2] |
| 气吹介质 / 流量 | — | — | — | — | 洁净压缩空气 50~100 L/min, 压降 1.0~1.5 bar | 洁净压缩空气 50~100 L/min, 压降 1.0~1.5 bar |
典型应用
详情资料:SUPERSCAN IIE 系列高稳定性扫描振镜 SUPERSCAN IIE
SUPERSCAN IV 是高动态高速数字振镜,采用基于模型的数字调节与 PWM 功率输出,降低系统发热。支持 XY2‑100‑E 增强、SL2‑100 双协议。主体水冷结构,IV‑30 支持反射镜吹扫。SOLAR 为光伏 / 晶圆专用版本,仅限 48V 供电。整机重点优化动态响应,主打 MOTF 飞行加工场景,高配置下可承受最高 6 kW 激光功率。

产品特点
主要技术参数
| 型号 | SS IV-10 | SS IV-15 | SS IV SOLAR | SS IV-20 | SS IV-30 |
| 产品定位 | 高端工业应用 | 高端工业应用 | 高端工业应用(晶圆 / 光伏) | 高端工业应用 | 高端工业应用 |
| 供电电压 | 30 V 或 48 V | 30 V 或 48 V | 仅 +48 V | +30 V 或 +48 V | 30 V 或 48 V |
| 电流 | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A |
| 纹波 / 噪声 | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | ≤200 mVpp @20 MHz | |
| 接口 | 数字 XY2-100-E 增强 + SL2-100 | 数字 XY2-100-E 增强 + SL2-100 | 数字 XY2-100-E 增强 + SL2-100 | 数字 XY2-100-E 增强 + SL2-100 | 数字 XY2-100-E 增强 + SL2-100 |
| 工作 / 储存温度 | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ | +15~+35 ℃ / −10~+60 ℃ |
| 湿度 / 防护 | ≤80% 无结露 / IP64 | ≤80% 无结露 / IP64 | ≤80% 无结露 / IP64 | ≤80% 无结露 / IP64 | |
| 典型偏转角 | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad | ±0.393 rad |
| 分辨率 XY2-100-E (16 bit) | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad | 12 μrad |
| 分辨率 SL2-100 (20 bit) | 0.76 μrad | 0.76 μrad | 0.76 μrad | 0.76 μrad | 0.76 μrad |
| 重复定位精度 (RMS) | <2.0 μrad | <2.0 μrad | <2.0 μrad | <2.0 μrad | <2.0 μrad |
| 位置噪声 (RMS) | <4.5 μrad | <4.5 μrad | <4.5 μrad | <3.2 μrad | <3.2 μrad |
| 温度漂移 — 增益 | 15 ppm/K | 15 ppm/K | 15 ppm/K | 15 ppm/K | 15 ppm/K |
| 温度漂移 — 位置 | 10 μrad/K | 10 μrad/K | 10 μrad/K | 10 μrad/K | 10 μrad/K |
| 8 h 长期漂移 (无水冷) | <60 μrad | <60 μrad | <60 μrad | <60 μrad | <60 μrad |
| 8 h 长期漂移 (有水冷) | <40 μrad | <40 μrad | <40 μrad | <40 μrad | <40 μrad |
| 输入孔径 [mm] | 10 | 15 | 15 / 20 | 20 | 30 |
| 光束位移 [mm] | 12.5 (SI) | 18.1 (QU/SI) / 18.0 (SC) | 18.1 (QU) / 18.0 (SC); 26.0 (QU/SC) | 26.0 | 36.0 (SI/SC) / 35.4 (QU) |
| 重量(无透镜)[kg] | ≈3.2 | ≈3.2 | ≈3.2 / ≈5.5 | ≈5.5 | ≈5.5(不锈钢外壳 ≈12.0) |
| 外形 L×W×H [mm] | 170×125×117.5 | 170×125×117.5 | 170×125×117.5 / 203×159×150 | 203×159×150/160.5 | 203×159×150 |
| 343 nm | — | — | SC(15 与 20 均有) | — | — |
| 355 nm(紫外) | Si | QU | QU,SC (15) / SC (20) | QU | — |
| 420–480 nm | — | — | — | — | QU |
| 515 nm | — | — | SC(仅 15) | — | — |
| 532 nm(绿光) | Si | QU,Si | QU,SC (15) / — (20) | QU,SC | — |
| 900–1100 nm + AL | — | — | — | — | QU,SC |
| 1020–1040 nm (>3 kW 高功率) | — | — | — | — | QU |
| 1030 / 1070 nm | — | SC | SC(仅 15) | — | — |
| 1064 nm(光纤) | Si | QU,Si,SC | QU,SC (15) / SC (20) | QU,SC | SI,SC,QU |
| 1060–1080 nm | — | QU(高功率镀膜) | QU(仅 15) | — | QU(>3 kW 高功率) |
| 10.6 μm(CO₂) | — | Si,SC | — | Si,SC | Si,SC |
| 可选调校 | VC(向量) M(微加工) | VC、C(清洗) H(填充) | PL(高线性) W(晶圆) | VC(其他可选) | VC(快速向量) FV(高动态快速向量) |
| 加工 / 定位速度 [rad/s] (@30 V / @48 V) | SI-VC:50/80 SI-M:30/30 | QU-VC:45/50 QU-C:—/200 SI-VC:50/65 SC-VC:55/75 SC-H:30/30 | IV-15 QU-W:200/200 IV-15 SC-PL:110/110 IV-15 SC-W:200/200 IV-20 SC-W:160/200 | QU-VC:45/50 SC-VC:50/75 SI-VC:45/60 | QU - 向量:30/50 SI - 向量:35/55 SC - 向量:40/65 SC-FV:30/50 |
| 追迹误差 [ms] | SI-VC:0.12 SI-M:0.10 | QU-VC:0.19 QU-C:0.30 SI-VC:0.16 SC-VC:0.14 SC-H:0.12 | IV-15 QU-W:0.30 IV-15 SC-PL:0.30 IV-15 SC-W:0.20 IV-20 SC-W:0.20 | QU-VC:0.28 SC-VC:0.20 SI-VC:0.25 | QU - 向量:0.48 SI - 向量:0.43 SC - 向量:0.30 SC-FV:0.24 |
| 1% 阶跃响应 [ms] | SI-VC:0.33 SI-M:0.41 | QU-VC:0.49 QU-C:0.65 SI-VC:0.43 SC-VC:0.37 SC-H:0.47 | IV-15 QU-W:0.65 IV-15 SC-PL:0.80 IV-15 SC-W:0.50 IV-20 SC-W:1.00 | QU-VC:0.70 SC-VC:0.50 SI-VC:0.62 | QU - 向量:1.2 SI - 向量:1.0 SC - 向量:0.8 SC-FV:0.65 |
| 幅面线速度示例 | 13 m/s(f=163 mm,80 rad/s) | 12.2 m/s(SC,75 rad/s) 12.7 m/s(QU,f=254 mm) | IV-15 SC:50 m/s(f=254 mm,200 rad/s) IV-20 SC:66 m/s(f=330 mm,200 rad/s) | 12.2 m/s(SC,75 rad/s) | 10.6 m/s(SC,65 rad/s) 12.7 m/s(QU,f=254 mm,50 rad/s) |
| 水冷 | ✓(可选 [W]) | ✓ | ✓ | ✓(可选 [W]/[N]) | ✓(直通 [W] 或 90°[W2]) |
| 空气吹扫(反射镜) | — | — | — | — | ✓(仅 IV-30,50–100 L/min,1.0–1.5 bar) |
典型应用
详情资料:SUPERSCAN IV 系列高动态扫描振镜 SUPERSCAN IV-10,SUPERSCAN IV-15,SUPERSCAN IV SOLAR,SUPERSCAN IV-20,SUPERSCAN IV-30
SUPERSCAN V‑15 为全数字反馈旗舰振镜,搭载数字编码器,可持续监测反射镜位置、速度,支持运行数据记录与故障诊断。SL2‑100 协议下可达 20bit 定位分辨率,极低噪声与温漂,可实现锐利尖角轨迹。防护等级 IP65,水冷配置,面向最高等级精密微加工。

产品特点
主要技术参数
| 型号 | SS V-15 (高精度旗舰) | SS IV-30 (大光斑高功率) |
| 系列定位 | 全数字反馈、高精度(微加工旗舰) | 高动态、高速加工(30 mm 大光斑) |
| 供电电压 | 30 V 或 48 V | 30 V 或 48 V |
| 电流 | 2 A RMS,最大 5 A | 2 A RMS,最大 5 A |
| 纹波 / 噪声 | ≤300 mVpp @20 MHz | ≤300 mVpp @20 MHz |
| 接口信号 | 数字:XY2-100 增强 + SL2-100 | 数字:XY2-100 增强 + SL2-100 |
| 工作温度 | +15 ℃ ~ +35 ℃ | +15 ℃ ~ +35 ℃ |
| 储存温度 | (按 datasheet,未单列) | −10 ℃ ~ +60 ℃ |
| 湿度 / 防护 | ≤80% 无结露 / IP65 | ≤80% 无结露 / IP64 |
| 典型偏转角 | ±0.393 rad | ±0.393 rad |
| 分辨率 XY2-100-E (16 bit) | 12 μrad | 12 μrad |
| 分辨率 SL2-100 (20 bit) | 0.76 μrad | 0.76 μrad |
| 重复定位精度 (RMS) | <0.4 μrad | <2.0 μrad |
| 定位噪声 (RMS) | <1.0 μrad | <3.2 μrad |
| 温度漂移 — 增益 | 8 ppm/K | 15 ppm/K |
| 温度漂移 — 位置 | 15 μrad/K | 10 μrad/K |
| 8 h 长期漂移(无水冷) | <50 μrad | <60 μrad |
| 8 h 长期漂移(有水冷) | <30 μrad | <40 μrad |
| 输入孔径 [mm] | 15 | 30 |
| 光束位移 [mm] | 18.27 (SC) / 18.33 (QU) | 36.0 (SC) / 35.4 (QU) |
| 重量(无透镜)[kg] | ≈3.2 | ≈5.5(不锈钢外壳 ≈12.0) |
| 外形 L×W×H [mm] | 170.0×125.0×117.5 | 203.0×159.0×150.0 |
| 355 nm(紫外) | SC, QU | — |
| 405 nm | QU | — |
| 420–480 nm | — | QU |
| 425–465 nm + AL | — | QU |
| 515 nm | — | SC |
| 515–532 nm + AL | — | QU |
| 532 nm(绿光) | SC, QU | — |
| 900–1100 nm + AL | — | QU, SC |
| 1064 nm(光纤) | SC, QU | SC, QU |
| 1020–1040 nm(>3 kW 高功率) | — | QU |
| 1060–1080 nm(>3 kW 高功率) | — | QU |
| 1060–1090 nm + AL | — | SC |
| 10.6 μm(CO₂) | SC | SC |
| AG(铝基型) | SC | — |
| 调校模式 | 微加工调校(锐利拐角、最小追迹误差) | VC(快速向量)、FV(高动态快速向量) |
| 写入速度 [cps] | QU:600;SC:800 | —(未列 cps,向量应用) |
| 加工速度 [rad/s] | QU:30;SC:30 | QU - 向量:30@30V / 50@48V SC - 向量:40@30V / 65@48V SC-FV:30@30V / 50@48V |
| 定位速度 [rad/s] | QU:30;SC:30 | QU - 向量:30@30V / 50@48V SC - 向量:40@30V / 65@48V SC-FV:30@30V / 50@48V |
| 追迹误差 [ms] | QU:0.18;SC:0.14 | QU - 向量:0.48 SC - 向量:0.30 SC-FV:0.24 |
| 1% 全行程阶跃响应 [ms] | QU:0.55;SC:0.45 | QU - 向量:1.2 SC - 向量:0.8 SC-FV:0.65 |
| 幅面线速度示例 | ≈5 m/s(f=163 mm,33 rad/s) | 10.6 m/s(SC,65 rad/s) 12.7 m/s(QU,f=254 mm,50 rad/s) |
| 水冷 | ✓ 直通 [W] 或 90°[W2],22–28 ℃,2–3 bar | ✓ 直通 [W] 或 90°[W2],22–28 ℃,<3 bar |
| 水冷流量 / 压降 | 2 L/min→0.3 bar;4→0.4;6→0.7 | 2 L/min→0.4 bar;4→0.8;6→1.2 |
| 空气吹扫(反射镜) | — | ✓ 50–100 L/min,1.0–1.5 bar |
典型应用
详情资料:SUPERSCAN V 系列全数字反馈扫描振镜 SUPERSCAN V-15,SUPERSCAN V-30